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蘇打掩膜版
蘇打玻璃常用在STN-LCD、TN-LCD、FED、EL行業(yè)專用光學(xué)掩模版基材
類別 蘇打掩膜版
常規(guī)尺寸(mm) 3"X3", 4"X4", 5"X5", 6"X6", 7"X7", 9"X9", 12"X12", 14"X17", 16"X18",20”x24”
450mm×550mm,400mm×400mm, 700mmX800mm
最大尺寸(mm) 850*1200
特殊尺寸(mm) 按客戶要求定做(XY=20~609mm)
基材厚度(mm) 1.6  2.3 3.0  4.8   7.8   8.0
鉻膜類型    ARC Anti-Reflective Chrome
熱性能(℃) 710℃
溫度收縮系數(shù) 8.1*10ˉ6(20~200 ℃)
透過率 >90%(T=2.3mm;l=400nm)
折射率 1.52
垂直入射反射率 約8%(片面反射約4%)
耐酸性能 H2SO4(80℃,99%) 0.1?/min
耐堿性能 NaOH(Wt2%)0.8?/min
表面平整度 <20um(400*400*3.0mm)

小尺寸鉻版(≤9英寸)
類別 超高精度/高精度(228.6mm*228.6mm) 中精度/低精度(228.6mm*228.6mm)
線縫尺寸
(μm)
線縫精度
(μm)
垂直度
(urad)
總長精度
(μm)
位置精度
(μm)
線縫尺寸
(μm)
線縫精度
(μm)
垂直度
(urad)
總長精度
(μm)
位置精度
(μm)
蘇打 ≥1.5 ≤0.2 ≤0.5 <0.5 ≤0.2 ≥5 ≤0.5 ≤1 ≤1 ≤0.5

大尺寸鉻版(>9英寸)
類別 超高精度/高精度(400mm*450mm) 中精度/低精度(400mm*450mm)
線縫尺寸
(μm)
線縫精度
(μm)
垂直度
(urad)
總長精度
(μm)
位置精度
(μm)
線縫尺寸
(μm)
線縫精度
(μm)
垂直度
(urad)
總長精度
(μm)
位置精度
(μm)
蘇打 ≥3 ≤0.75 ≤0.5 ≤1 ≤0.75 >6 ≤1 ≤1.5 ≤2 ≤1
【MEMS工藝】三種常見CVD技術(shù),你知道的有哪些?
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2024-11-04

本文將詳細(xì)介紹目前三種常見的CVD技術(shù)——低壓化學(xué)氣相沉積(LPCVD)、等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)以及高密度等離子體化學(xué)氣相沉...

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【微納加工】晶圓傳輸設(shè)備,是智能制造加速器還是成本黑洞?
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2024-11-05

在半導(dǎo)體芯片制造中,從原材料處理到最終封裝測(cè)試,整個(gè)流程涉及上千道工序,每一環(huán)節(jié)都需要精確控制,以確保芯片的性能與質(zhì)量。隨著科技的飛速發(fā)展,...

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【半導(dǎo)體材料】當(dāng)微流控技術(shù)遇上神奇的超疏水材料
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2024-11-06

超疏水表面材料以其對(duì)水的高度排斥性,不僅改變了我們對(duì)物質(zhì)與水之間相互作用的傳統(tǒng)認(rèn)知,更在船舶浮力提升、管道運(yùn)輸優(yōu)化、織物功能拓展以及微流體控...

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【MEMS工藝】揭秘RDL工藝——重塑芯片I/O布局
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2024-11-07

RDL(Redistribution Layer,重布線層)工藝在先進(jìn)封裝領(lǐng)域發(fā)揮越來越重要的作用。它不僅優(yōu)化了芯片的I/O布局,提高了數(shù)據(jù)傳輸效率,還為芯片的...

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