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MEMS加工

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刻蝕
  • 堿性腐蝕
    KOH，TMAH
  • 酸性腐蝕
    HF，BOE，HCI，HNO3等
  • 光刻膠剝離
    Acetone，IPA
  • 電感耦合等離子刻蝕
    GaN，GaAs，InP
  • 深硅刻蝕DRIE
    刻蝕均勻性<±5%，選擇比＞50:1
  • 深氧化硅刻蝕
    石英，玻璃，硅，刻蝕形貌：90°±1°
  • 離子束刻蝕
    用于較難刻蝕的金屬或其他物質(zhì)
  • 反應(yīng)離子刻蝕
    Si，SiO?，SiNx
  • 灰化
    光刻膠，聚合物


案例展示


                         

          RIE of InP waveguide 7um polyimide                BOSCH工藝                   Deep Si etch SOI Notch Free                  SOI Notch Free      





【MEMS工藝】三種常見CVD技術(shù)，你知道的有哪些？
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2024-11-04

本文將詳細介紹目前三種常見的CVD技術(shù)——低壓化學氣相沉積（LPCVD）、等離子體增強化學氣相沉積（PECVD）以及高密度等離子體化學氣相沉...

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【微納加工】晶圓傳輸設(shè)備，是智能制造加速器還是成本黑洞？
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2024-11-05

在半導(dǎo)體芯片制造中，從原材料處理到最終封裝測試，整個流程涉及上千道工序，每一環(huán)節(jié)都需要精確控制，以確保芯片的性能與質(zhì)量。隨著科技的飛速發(fā)展，...

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【半導(dǎo)體材料】當微流控技術(shù)遇上神奇的超疏水材料
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2024-11-06

超疏水表面材料以其對水的高度排斥性，不僅改變了我們對物質(zhì)與水之間相互作用的傳統(tǒng)認知，更在船舶浮力提升、管道運輸優(yōu)化、織物功能拓展以及微流體控...

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【MEMS工藝】揭秘RDL工藝——重塑芯片I/O布局
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2024-11-07

RDL（Redistribution Layer，重布線層）工藝在先進封裝領(lǐng)域發(fā)揮越來越重要的作用。它不僅優(yōu)化了芯片的I/O布局，提高了數(shù)據(jù)傳輸效率，還為芯片的...

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