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MEMS加工

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鍍膜
  • 低壓化學氣相沉積
    SiNx,片內(nèi)均勻性:<±5%
  • 等離子增強 化學氣相沉積
    SiO?,SiNx,a-Si(B,P,Ge摻雜)
  • 感應(yīng)耦合 化學氣相沉積
    SiO?,SiNx,SiC(低溫、低應(yīng)力鍍膜)
  • 原子層沉積
    Al2O3、HfO2、AlN
  • 光學鍍膜
    SiO2、MgF2、ITO、TiO2、Ta2O5、ZrO2、Al2O3
  • 濺射沉積
    Ti、Al、Ni、Au、Ag、Cr、Pt、Cu、TiW90、Pd、Pt、Zn、Mo、W、Ta、Ru、Si、SiC、NiCr20、Nb
  • 電子束蒸發(fā)
    Ti,Al,Ni,Ag,Cr,Sn,Pt,AuGe
  • 熱蒸發(fā)
    Sn,AuSn,Ag,Au

案例展示


                        

                      高密度金屬Al厚膜                                金屬膜沉積                       20nm HfO2  onto Si trenches                   Au Lift-off Process

                                                                                                                                    (AR=25)








【MEMS工藝】三種常見CVD技術(shù),你知道的有哪些?
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2024-11-04

本文將詳細介紹目前三種常見的CVD技術(shù)——低壓化學氣相沉積(LPCVD)、等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)以及高密度等離子體化學氣相沉...

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【微納加工】晶圓傳輸設(shè)備,是智能制造加速器還是成本黑洞?
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2024-11-05

在半導體芯片制造中,從原材料處理到最終封裝測試,整個流程涉及上千道工序,每一環(huán)節(jié)都需要精確控制,以確保芯片的性能與質(zhì)量。隨著科技的飛速發(fā)展,...

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【半導體材料】當微流控技術(shù)遇上神奇的超疏水材料
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2024-11-06

超疏水表面材料以其對水的高度排斥性,不僅改變了我們對物質(zhì)與水之間相互作用的傳統(tǒng)認知,更在船舶浮力提升、管道運輸優(yōu)化、織物功能拓展以及微流體控...

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【MEMS工藝】揭秘RDL工藝——重塑芯片I/O布局
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2024-11-07

RDL(Redistribution Layer,重布線層)工藝在先進封裝領(lǐng)域發(fā)揮越來越重要的作用。它不僅優(yōu)化了芯片的I/O布局,提高了數(shù)據(jù)傳輸效率,還為芯片的...

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