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測(cè)試服務(wù)

測(cè)試服務(wù)

Testing service

SEM（掃描電子顯微鏡）
設(shè)備描述：
此設(shè)備為緊湊型場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡，成像分辨率優(yōu)于10nm。低加速電壓成像，有效減少電荷累積，非導(dǎo)電樣品，無(wú)須噴金噴碳處理，便可直接進(jìn)行觀察。
工藝能力：
?  電子槍?zhuān)簣?chǎng)發(fā)射電子源
?  加速電壓：0.5 to 2 kV
?  束流：0.2 to 1 nA 
?  分辨率：<10 nm （@1kV）
?  放大倍數(shù)：250 to 130,000x  (2048×2048pixels) 
?  樣品尺寸：最大 100×60 mm
?  樣品高度：最大 30 mm


為什么深硅刻蝕中C4F8能起到鈍化作用？
為什么深硅刻蝕中C4F8能起到鈍化作用？

2024-11-27

RIE是一種結(jié)合了物理濺射和化學(xué)反應(yīng)雙重機(jī)制的刻蝕技術(shù)。在等離子體中，離子和中性自由基共同作用于材料表面。其中，自由基的密度遠(yuǎn)高于離子，它們通...

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【半導(dǎo)體材料】電子封裝材料有哪些？
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2024-11-29

電子封裝材料作為連接芯片與外部世界的橋梁，其重要性不言而喻。合格的封裝不僅能夠?yàn)樾酒峁┪锢肀Ｗo(hù)，實(shí)現(xiàn)標(biāo)準(zhǔn)規(guī)格化的互連，更是確保電子產(chǎn)品性能...

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【MEMS工藝】三種常見(jiàn)CVD技術(shù)，你知道的有哪些？
【MEMS工藝】三種常見(jiàn)CVD技術(shù)，你知道的有哪些？

2024-11-04

本文將詳細(xì)介紹目前三種常見(jiàn)的CVD技術(shù)——低壓化學(xué)氣相沉積（LPCVD）、等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積（PECVD）以及高密度等離子體化學(xué)氣相沉...

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【微納加工】晶圓傳輸設(shè)備，是智能制造加速器還是成本黑洞？
【微納加工】晶圓傳輸設(shè)備，是智能制造加速器還是成本黑洞？

2024-11-05

在半導(dǎo)體芯片制造中，從原材料處理到最終封裝測(cè)試，整個(gè)流程涉及上千道工序，每一環(huán)節(jié)都需要精確控制，以確保芯片的性能與質(zhì)量。隨著科技的飛速發(fā)展，...

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